基本知识

某半导体超纯水制备系统工艺介绍和造价分析

写在前面：

最近本人也算是处于比较高产的状态了，不过马上又要进入偷懒阶段了。接下来的计划是反渗透设计软件的分享（清明前后）、中水回用相关及辅助工具分享，争取5.1前结束系列发文。

今日重点：

分享一篇半导体行业超纯水设备的造价分析，作为前文价格计算公式关于半导体相关内容缺失的补充，让大家对半导体的超纯水设备基本构造及造价有一定的概念。

论文涉及的半导体工艺仅供参考，基本流程如下：

原水池---原水泵---换热器---多介质过滤器（MMF）---过滤水池

---过滤水泵---活性炭过滤器（ACF）---阳床---脱碳塔---脱碳水池---脱碳水泵---阴床---去离子水池（DIW水池）

---DIW水泵---UV杀菌器---保安过滤器---R0高压泵--RO--RO水池

----TOC-UV脱除器---MB送水泵---混床（MB）---脱气膜前过滤器---脱气膜1---UPW 水箱

---循环水泵---换热器---TOC-UV2---纯水增压泵---抛光混(PMB)---脱气膜2 ---终端超滤（UF）---用水点

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论文内容通俗易懂，结论深度较浅，非常适合非资深人士对相关超纯水设备及其在半导体行业领域造价构成的了解。

超纯水制备工艺日新月异，相关设备组件国产化程度也越来越高，由于国外组件及材料导致半导体领域超纯水设备过高及进口材料占比过高的情况，在一定程度上会得到缓解，可参考RO膜的发展历程。